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      光學零件的超聲波清洗

      來源:淼之音超聲電氣 瀏覽:944次 時間:2017-05-02

      超聲波清洗是利用超聲場所產生強大的作用力,促使物質發生一系列物理、化學變化而達到清洗目的。具有效果好,清潔度高且全部光學零件清潔度一致;清洗速度快,提高生產效率,不須人手接觸清洗液,安全可靠等優點逐漸代替了傳統的手工清洗及精擦操作,使清洗及精擦的效率成倍或十多倍的提高,為光學工業生產輔助工序實現機械化、自動化提供了條件。

      光學零件清洗工藝從整體流程看通常可分為四道工序:洗滌、漂洗、脫水、烘干。具體流程如下: 洗滌主要是利用有機溶劑對光學零件表面進行濕潤、滲透、乳化而達到綜合的作用,從而達到對各類污垢進行溶解,去除的效果;,漂洗通過純水對光學零件表面的沖洗及超聲作用,使洗滌后殘留在光學零件表面的洗滌劑溶解、稀釋和去除的作用;清洗溫度升高時,對空化的產生有利,漂洗效果較好,但是溫度過高氣泡中的蒸氣壓增大,空化強度會降低,所以溫度的選擇要考慮對空化強度的影響也要考慮清洗液的化學清洗作用;,脫水是經漂洗后的光學零件表面含有大量水分,進入有機溶劑的脫水劑中進行脫水,和水能充分混溶;烘干的過程大略如下:干燥劑蒸汽在光學零件表面冷凝為液體一干燥劑液體和光學零件表面的脫水劑形成共沸物一一部分共沸物形成蒸汽離開光學零件表面一一部分共沸物以液體的狀態流經光學零件表面對光學零件起沖洗作用;經過這些過程后,光學零件表面潔凈、干燥。

      為了減少或避免脫水劑等有機溶劑對環境及操作人員身體的影響, 目前的超聲波清洗技術已對工藝進行了改良,通過使用純水漂洗,而省略脫水,漂洗后的光學零件表面為純水狀態,再由異丙醇烘干,既可快速、有效地干燥光學零件,又可避免有機溶劑對環境及工作人員的影響。

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